工业设备清洗的主要方法
发表时间:2020-06-19
工业设备清洗是物体表面受到物理、化学或生物的作用而形成的污染层或覆盖层称作污垢,去除这些污染物或覆盖层而使其恢复原表面状况的过程称为清洗。那么它的清洗方法有哪些?接下来详细的为大家介绍:
1.物理清洗法
物理清洗法是借助于手工工具和机械对各种污类施加外力清除,而不改变污类组分的清洗方法。即不改变原来的化学分子组分的方法。
①机械清洗法:清扫器和刮刀清理法、钻管清洗法、喷丸清洗法。
②水利清洗法:低压水力清洗(低压清洗的压力为196-686千帕,大约2-7公斤力/平方厘米,等于0.2-0.7Mpa)。
③高压水力清洗:高压清洗的压力为4900千帕,大约50公斤力/平方厘米,等于5Mpa。这种情况方法也叫高压水射流法、高压清洗机。
2.化学清洗法
化学清洗法是利用化学药剂使表面污染或覆盖层(如垢层)与其发生化学反应而被除去,如对垢层的酸洗、碱洗等。为使基材在化学清洗中不受腐蚀或使腐蚀率控制在允许范围内,通常在化学清洗液中要加入适量的缓蚀剂和起活化、渗透、润湿作用的添加剂,方法:浸泡法、循环法、运转中清洗法也叫不停车化学清洗法。
3.电子清洗法(电子除垢、防垢)
电子清洗法防垢、除垢原理是:利用高频电场改变水的分子结构,使其防垢和除垢。当水通过高频电场时,其分子物理结构发生了变化,原来的缔合链状大分子,断裂成单个水分子,水中盐类的正负离子被单个水分子包围,运动速度降低,有效碰撞次数减少,静电引力下降,无法在受热壁式管面上结构,从而达到防垢目的。同时由于水分子偶极矩增大,使其与盐的正负离子(水垢分子吸合能力增大,使受热面或管壁上的水垢变得松软,容易脱落,产生了除垢的效果。
4.静电清洗法(静电防垢、除垢)
静电防垢、除垢与电子除垢一样,也是通过改变水分子状态来实现防垢、除垢目的的。只不过后者是利用静电场的作用,而不是电子作用。其机理是水分子具有极性(也称偶极子),当水偶极子通过静电场时,每个水偶极子将按正负有序地连续排列。如水中含有溶解的盐类,其正负离子将被水偶极子包围,也按正负顺序排列于水偶极子群中,不能自己的运动,因而也就不能靠近管(器)壁,并进而沉积于管(器)壁上形成水垢。同时,水中释放的氧,可使管壁产生一层极薄的氧化层,可以防止管(器)壁腐蚀。
上面是关于工业设备清洗的介绍,希望上面的几种方法可以帮到大家。
1.物理清洗法
物理清洗法是借助于手工工具和机械对各种污类施加外力清除,而不改变污类组分的清洗方法。即不改变原来的化学分子组分的方法。
①机械清洗法:清扫器和刮刀清理法、钻管清洗法、喷丸清洗法。
②水利清洗法:低压水力清洗(低压清洗的压力为196-686千帕,大约2-7公斤力/平方厘米,等于0.2-0.7Mpa)。
③高压水力清洗:高压清洗的压力为4900千帕,大约50公斤力/平方厘米,等于5Mpa。这种情况方法也叫高压水射流法、高压清洗机。
2.化学清洗法
化学清洗法是利用化学药剂使表面污染或覆盖层(如垢层)与其发生化学反应而被除去,如对垢层的酸洗、碱洗等。为使基材在化学清洗中不受腐蚀或使腐蚀率控制在允许范围内,通常在化学清洗液中要加入适量的缓蚀剂和起活化、渗透、润湿作用的添加剂,方法:浸泡法、循环法、运转中清洗法也叫不停车化学清洗法。
3.电子清洗法(电子除垢、防垢)
电子清洗法防垢、除垢原理是:利用高频电场改变水的分子结构,使其防垢和除垢。当水通过高频电场时,其分子物理结构发生了变化,原来的缔合链状大分子,断裂成单个水分子,水中盐类的正负离子被单个水分子包围,运动速度降低,有效碰撞次数减少,静电引力下降,无法在受热壁式管面上结构,从而达到防垢目的。同时由于水分子偶极矩增大,使其与盐的正负离子(水垢分子吸合能力增大,使受热面或管壁上的水垢变得松软,容易脱落,产生了除垢的效果。
4.静电清洗法(静电防垢、除垢)
静电防垢、除垢与电子除垢一样,也是通过改变水分子状态来实现防垢、除垢目的的。只不过后者是利用静电场的作用,而不是电子作用。其机理是水分子具有极性(也称偶极子),当水偶极子通过静电场时,每个水偶极子将按正负有序地连续排列。如水中含有溶解的盐类,其正负离子将被水偶极子包围,也按正负顺序排列于水偶极子群中,不能自己的运动,因而也就不能靠近管(器)壁,并进而沉积于管(器)壁上形成水垢。同时,水中释放的氧,可使管壁产生一层极薄的氧化层,可以防止管(器)壁腐蚀。
上面是关于工业设备清洗的介绍,希望上面的几种方法可以帮到大家。
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